阿斯麦公布EUV光源技术突破 2030年芯片产能或提升50%

【阿斯麦公布EUV光源技术突破 2030年芯片产能或提升50%】据路透社报道，阿斯麦（ASML）的研究人员表示，他们已找到提升关键芯片制造设备光源功率的方法，到2030年可将芯片产量提高多达50%。记者注意到，阿斯麦极紫外（EUV）光源首席技术官在接受采访时表示：“这不是花拳绣腿，也不是那种只能在极短时间内演示可行的东西，这是一个能在客户实际生产环境的所有相同要求下，稳定输出1000瓦功率的系统。”
报道称，随着周一公布的这一技术进步，阿斯麦旨在通过改进光刻机中技术难度最高的部分，进一步拉开与所有潜在竞争对手的距离。这是一场生成具备合适功率和特性的极紫外光，以实现高产量芯片制造的技术攻关，该公司研究人员已找到将EUV光源功率从目前的600瓦提升至1000瓦的方法。其主要优势在于，更高的功率意味着每小时能制造更多芯片，从而降低单颗芯片的成本。（风凰网科技）